800V直流架构升级:宽禁带功率器件驱动数据中心供电变革(2026年 24页)
分类:研究报告
标签:800V直流架构、碳化硅、氮化镓、数据中心供电
摘要:随着AI算力需求爆发,数据中心单机柜功率密度持续跃升,传统12V供电架构在能效与空间上逼近极限,800V直流(800V DC)架构成为支撑高密智算的关键演进方向。报告系统分析了功率密度提升如何驱动供电架构升级,以及宽禁带功率器件(碳化硅SiC与氮化镓GaN)在其中的增量空间。在AI数据中心供电链中,PDU之后分为Power Rack(交流转直流)与IT Rack(直流转直流)两大环节:SiC凭借高压、低损耗特性,主要承担Power Rack中AC/DC的整流与功率变换;GaN凭借高频、高功率密度特性,主要承担IT Rack中DC/DC的降压与储能变换。报告将供电架构演进划分为四个阶段:Sidecar(外挂电源架)阶段,以1MW为例约需612颗SiC器件与相当数量的GaN器件;板载(on-board)阶段将电源进一步贴近负载;集中整流阶段提升功率密度;最终走向SST(固态变压器)阶段,实现更高效的电能路由。每一阶段的推进都伴随器件用量与价值量的结构性提升,宽禁带半导体由此打开长期成长空间。相较传统12V架构,800V直流将母线电压大幅提升,显著降低大电流下的铜损与线缆重量,提升电源转换效
来源:zuudee | 日期:2026-08-09 | 格式:pdf | 页数:24
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